MKY-SD-900M 磁控濺射儀

原理：

在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質量。同時，經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。

技術參數：

主機規格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）

靶材：Au（標配）

樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）

靶材尺寸：Ф50mm

真空指示表：高真空度：≤ 4X10-2mbar

離子電流表：大電流：100mA

定時器：長時間：0-360S

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體：多種

高電壓： -1600DCV

機械泵：標準配置 2L/S（國產 VRD-8）

用途：適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。

特點：

1、經濟、外觀精美。

2、成膜速

3、基片溫度低。

4、膜的粘附性好。

5、可實現大面積鍍膜。

6、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

7、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

8、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

MKY-SD-900M 磁控濺射儀